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[Caracteristicas]
· La serie KD es una válvula de diafragma directa con un diseño compacto que proporciona un alto valor CV. Es adecuado para gas de alta pureza para semiconductores, demostrando alta durabilidad, resistencia a la corrosión y confiabilidad.
· Se logra un rendimiento superior de reemplazo de gas minimizando las dimensiones del orificio vertical en el cuerpo y logrando un volumen interno de 1.2 cm3 (cuando 1/4 "CVC macho está abierto).
· La estructura única del sello de gas se implementó para un mejor rendimiento del sello, alta durabilidad, rendimiento de desgasificación y resistencia a la corrosión.
· El método de formación único y la alta resistencia a la corrosión del material de diafragma cuidadosamente seleccionado significa que hay poca diferencia individual entre las piezas, y esto proporciona una alta durabilidad.
· El entorno de producción de alto nivel y el proceso de pulido de la superficie interna ofrecen un rendimiento de partículas de calidad que admite gas de alta pureza para la industria de semiconductores.
Número de Parte
Se muestra el número de parte configurado
Número de Parte |
---|
KD4MS-VFC-EP-316L |
KD8MS-VC-STD-316L |
Cargando…
Forma del cuerpo principal | Recto | Material del cuerpo | Acero inoxidable 316 L | Fluidos aplicables | Aire / Gas |
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Forma de la manija | Mango redondo | Revestimiento del cuerpo principal | Ninguno | Rango de temperatura de funcionamiento(℃) | -10::80 |
Rango de presión de operación(MPa) | 0.4::0.7 | Diámetro del mango D(φ) | 42 | Modo de operación | Manual |
Método de operación | Manual de 270 grados |
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